星源原料请求一种涂覆隔阂及其制备办法的专利可以下降锂发生电镀和枝晶成长的危险

　　金融界 2024 年 8 月 4 日音讯，天眼查知识产权信息数据显现，深圳市星源原料科技股份有限公司请求一项名为“一种涂覆隔阂及其制备办法“，公开号 CN2.5，请求日期为 2023 年 8 月。

　　专利摘要显现，一种涂覆隔阂及其制备办法，归于锂电池技术领域；涂覆隔阂包含：基膜和涂覆层，涂覆层附着于基膜的至少部分区域，涂覆隔阂孔隙率 52％～80％，涂覆层的孔隙结构的孔径规模为不小于 10nm，涂覆层的成分包含侧链被阴离子侧基替代的聚合物；涂覆层的孔隙结构具有较为适宜的孔径和孔隙率，离子可在该孔隙结构中完成较好的传输，可以下降锂发生电镀和枝晶成长的危险，到达改进现在涂覆隔阂易发生锂枝晶的问题的意图。